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氫氣爐按溫度分為高溫氫氣爐和中溫氫氣爐，按用途分為單站氫氣爐和雙站氫氣爐，根據結構分為立式氫氣爐、臥式氫氣爐和底部進料氫氣爐。氫氣爐用于粉末冶金燒結、陶瓷金屬化工藝、磷還原、燒結等，中溫氫氣爐用于焊接、退火、脫氣、脫脂、凈化等工藝。用戶可以根據工藝要求提出氫氣爐的最高溫度指標。高溫氫氣爐是利用鎢和膽囊的加熱原理，在保護氣氛下燒結硬質合金刀頭和各種金屬粉末壓塊的成套設備。它設計用于硬質合金、鏑金屬和陶瓷材料的工業生產。鎢燒結爐應用于科研單位，利用加熱元件的加熱原理，在真空充氫的...

高溫氣氛箱式爐是一種常見的高溫實驗裝置，用于進行高溫處理和熱處理實驗，常用于材料研究、化學合成、陶瓷制備等領域。箱式爐是一種能夠達到高溫的熱處理裝置，通常由爐體、加熱元件、溫度控制系統、氣氛控制系統等組成。爐體通常由不銹鋼或陶瓷等高溫材料制成，能夠承受高溫和化學腐蝕。加熱元件通常采用電阻絲、石墨等材料，能夠提供高溫的加熱能力。溫度控制系統通常由溫度控制器、熱電偶等組成，能夠精確地控制爐體溫度。氣氛控制系統通常由氣體流量控制器、氣體流量計等組成，能夠控制爐內氣氛的成分和流量。高...

雙溫區管式爐是一種高溫加熱設備，主要應用于半導體材料的生產和研究等領域。采用石英管作為反應室，可分為上下兩個溫區，分別控制溫度。通常使用電阻絲作為加熱元件，可以通過PID控制系統精確地控制溫度。利用電阻絲作為加熱元件，通電后產生的熱量傳導到反應室中，使反應室的溫度升高。管式爐通過上下兩個溫區的控制，可以實現不同溫度的控制，以適應不同的反應需求。1、高溫度控制精度：采用PID控制系統，可以實現高精度的溫度控制，控制精度可以達到0.1℃。2、雙溫區控制：可以實現上下兩個溫區的分別...

高真空蒸發鍍膜儀特別適用于蒸發對氧敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等）以及各種氧化物材料。如果改變一些配置，還可以實現有機材料的蒸發涂層，這可以滿足發光器件和有機太陽能電池的研究要求，是一種涂層效果理想的實驗設備。1、一體化設計，結構緊湊，節省空間。2、微粒涂層-適用于高級高分辨率場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）樣品制備。3、渦輪分子泵高真空系統-高真空碳蒸發，適用于SEM和TEM碳涂層應用。4、全自動觸摸屏控制-快速數據輸入，操作簡單。觸摸屏被用作簡單的操作核心，即使是...

極片的壓實密度對電池的電化學性能有重要影響。在一定范圍內，隨著壓實密度增加，活性物質粒子間距減小，接觸面積增大，利于離子導電的通路和橋梁增多，在宏觀方面表現為電池內部電阻降低。但若極片的壓實密度太大，活性物質粒子之間接觸程度太緊密，電子導電率增加。但鋰離子通道減少或者堵塞，不利于容量的發揮，進行放電時，極化增加，電壓降低，容量下降。壓實密度太小時，粒子間距大，鋰離子移動通道通暢，電解液吸液能力較強，利于電池內部的鋰離子移動，但由于粒子間接觸程度不夠緊密，不利于電子進行導電，在...

小型蒸鍍儀體積小，功能齊全，但它配備了電壓和電流反饋、樣品臺旋轉、樣品高度調節和電動擋板功能。通過定期調節預熱功率和蒸發功率，大多數金屬可以均勻地蒸發和沉積。真空室由透明石英玻璃制成，以減少樣品污染?？梢孕D樣品臺以獲得更均勻的膜，并且可以制備各種金屬膜和有機膜。小型蒸鍍儀工作包括以下基本工藝：1、加熱蒸發過程：包括從冷凝相變成氣相的過程。每種蒸發物質在不同溫度下具有不同的飽和蒸汽壓。2、氣態原子或分子在蒸發源和基底之間的傳輸是原子或分子于環境大氣中的飛行過程。3、蒸發原子或...

真空技術與熱處理相結合的綜合技術，是指熱處理過程的全部和部分都在真空下進行。小型真空管式爐熱效率高，能實現快速升溫和降溫，能實現不氧化、不脫碳、不滲碳，能去除工件表面的磷屑，并具有脫脂和脫氣功能，從而達到表面光潔度凈化的效果。將實驗氣體放入爐管內，爐管兩端用閥門密封。氣體在加熱過程中可以發生分解、結合等化學反應。在充氣過程中，閥門控制流量計、質量流量計、壓力表等。爐體材料全部采用高純度氧化鋁/進口摩根纖維，節能效果是老式電爐的80%以上。微電腦控制可編程，全自動升溫，控溫精度...