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等離子鍍膜設備是一種小型射頻（RF）等離子磁控濺射鍍膜儀器系統。該系統包括所有必需的配件，如300W（13.5mhz）射頻電源、2"磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。它是制作一些金屬和非金屬的又好又便宜的實驗幫手。在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評價薄膜樣品的性能時，需要對薄膜樣品在不同厚度下的性能進行測試。等離子鍍膜設備集成了真空鍍膜系統和手套箱系統，可在高真空蒸發室中完成薄膜蒸發，并將蒸發后的樣品在手套內的高純惰性氣體氣氛中儲存...

輥壓機由機架、兩個輥系、傳動裝置、扭矩支承、輥罩、進料裝置、液壓(加壓)系統、主軸承潤滑系統、干油潤滑系統、電氣系統、拆輥裝置等部份組成。在中控操作的過程中，輥壓機出現波動大致可概括為三方面原因：一是物料因素的影響；二是輥壓機電氣/機械方面故障所致；三是工藝流程上的影響因素。1物料因素的影響1.1通過輥壓機的物料細粉量過多因細粉的密實度低，其間夾雜著氣體。當細粉量過多物料經過高壓力區被擠壓后密實度會增高，但細粉中夾雜的氣體會聚集成氣泡，在高壓力作用下氣泡被擠壓破裂，從而導致輥...

1100℃微型箱式爐采用電阻絲作為加熱元件，K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。下拉式爐門結構，方便客戶放樣；爐體采用氧化鋁微晶纖維。溫度可達1100℃，可連續工作1000℃，控溫精度±1℃；能耗500W還配備通風接口，可在氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場平衡、升降溫速度快、節能等優點，此外，該設備還可置于手套箱內，在真空和可控氣氛下進行樣品燃燒，是大專院校、科研院所及工礦企業進行高溫燒結、金屬退火及質量檢測的理想產品。電阻絲為發熱體，采用雙層...

箱式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫燒結用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗。熱電偶將爐溫轉變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調節儀上。調節儀將此信號與程控設定相比較，輸出一個可調信號。再用可調信號控制觸發器，再有觸發器觸發調壓器，達到調節電爐電壓和電爐溫度的目的。箱式爐的維護注意事項1.爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右...

1200℃開啟式管式爐具有基礎溫度低、沉積速度快、成膜質量好、針孔少、不易開裂等優點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應氣體分子，中性反應氣體分子會變成碎片或處于活化狀態，容易發生反應；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強的化學活性，易于反應在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.001pa；數字質量流量控制系統由多通道質量流量計和流量顯示儀表組成，實現氣體流量的精確測量和控制；每條燃氣管道...

管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業，測定材料在一定氣溫條件下的專業設備。爐型結構簡單，操作容易，便于控制，能連續生產。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應具備國家相應電氣設備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術文件!溫度系統操作:用戶開關板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設定儀表(如P、I、D參數)，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱...

就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現象稱為濺射現象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發射原子。早期的人們認為，這種現象源于目標的局部加熱。然而，人們發現濺射和蒸發有本質區別，人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁...